Organisation du Workshop National “Photonique sur Silicium: Une rupture attendue”

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L’IRT Nanoelec a organisé, dans le cadre de son programme photonique sur silicium, un Workshop « National » sur la thématique Photonique sur silicium.

Le workshop s’est tenu le lundi 27 septembre à l’espace Van Gogh de la maison de la RATP à Paris (12ème).

L’objectif était de réunir un maximum d’acteurs Français et passer une journée ensemble à partager nos connaissances et nos avancées dans ce domaine de la photonique sur silicium.

Objectif parfaitement rempli puisque une cinquantaine de participants ont répondu à l’appel.

Des nombreuses discussions ont jalonné la journée avec un large spectre de représentants du domaine allant du CEA-Leti en passant par le CNRS, le III-V Lab, Orange Labs, Nokia Bell Labs et ST Microelectronics pour ne citer qu’eux.

Le programme de présentation était le suivant:

« Photonique sur silicium : Une rupture attendue »

  • 9h30 – 10h00 : « Welcome » – café d’accueil
  • 10h00 – 10h10 : Introduction / Bienvenue au workshop / Objectif de la journée – M. Wolny – Directeur de l’IRT Nanoelec
  • 10h10 – 10h25 : Le programme Photonique sur silicium de l’IRT Nanoelec – B. Charbonnier (Directeur du programme Photonique sur silicium – IRT Nanoelec)
  • 10h25 – 10h55 : L’historique de la photonique sur silicium et le futur boom de l’optique
    • 10h25 – 10h40 : « Des premiers développements technologiques au Leti  à l’intégration laser » – Ch. Kopp (CEA-Leti)
    • 10h40 – 10h55 : « L’évolution des systèmes de transmission optique très haut débit et l’impact de la photonique sur silicium» – G. Charlet (Nokia Bell Labs)
  • 10h55 – 11h05: Questions / réponses
  • 11h05 – 12h20: Technologie et Composants
    • 11h05 – 11h20 : « Les challenges technologiques à relever » – F. Boeuf (ST)
    • 11h20 – 11h35 : « Croissance des semi conducteurs à base d’arséniures sur substrats Si(100) 300mm pour réalisation d’émetteurs intégrés» – Th. Baron (CNRS/LTM)
    • 11h35 – 11h50 : « Optimisation des procédés de fabrication de guides d’onde silicium sub-micrométriques pour des interconnexions optiques très faibles pertes» – E. Pargon (CNRS/LTM)
    • 11h50 – 12h05 : «La photonique sur silicium au III-V Lab: Enjeux et perspectives» – M. Achouche (III-V Labs)
    • 12h05 – 12h25 : “Modulateurs  photonique sur silicium pour les communication optiques avançées” – D. Morini (C2N)
  • 12h25 – 12h30 : Questions / réponses
  • 12h30 – 14h00: Repas / Networking
  • 14h00 – 15h45 : Intégration / Modules / Systèmes :
    • 14h00-14h15: «Spécificités et challenges pour l’environnement de conception de la photonique sur silicium » – F.Gays (CEA-Leti avec le support de Mentor, a Siemens Business)
    • 14h15 -14h30 : «Couplage optique collectif et passif pour les communications optiques rapides »  – J.L Polleux  (ESYCOM – ESIEE)
    • 14h30 -14h45 : « Packaging avancé pour les modules photonique » –  St. Bernabé (CEA-Leti) et M Epitaux  (Samtec)
    • 14h45 – 15h00: « La photonique sur silicium: le retour d’expérience d’un opérateur de télécommunications – S. Durel (Orange Labs)
    • 15h00 – 15h15: “Solution d’interconnexions photonique pour les architectures multi-coeurs” – Ian O’Connor (Ecole Centrale de Lyon)
    • 15h15 – 15h30 : « Caractérisations systèmes de composants photonique intégrés sur silicium» – C.Peucheret et L. Bramerie (FOTON)
  • 15h30 – 15h45 : Questions / réponses
  • 15h45 – 16h15 : Marché / Perspectives
    • 15h45 – 16h00 : “Photonique sur silicium: Tendances et perspectives de marché” – Eric Mounier (Yole)
    • 16h00 – 16h15 : « Du marché des transceivers à celui de l’optique intégrée» – S. Fanfoni (ST représentante Business Unit)

 

  • 16h15 – 16h30 : Questions / réponses – Conclusion de la journée.

 

  • 16h30 : Fin de la journée du Workshop.

Retrouver les présentations: